【摘 要】
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本文简要介绍了靶材的主要性能要求、制备工艺、应用分类和发展概况.用加速的离子轰击固体表面，离子和固体表面原子交换动量，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，这一过
【出 处】
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珠三角光电产业与真空科技创新论坛暨2016年广东省真空学会学术年会
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本文简要介绍了靶材的主要性能要求、制备工艺、应用分类和发展概况.用加速的离子轰击固体表面，离子和固体表面原子交换动量，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，这一过程称为溅射。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的源(Source)材料，通常称为靶材。平面靶材的制备工艺主要包括熔炼铸造法和粉末烧结法.旋转靶材的制备工艺主要包括挤压、等离子喷涂和粉末烧结。
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