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影响掩膜微细电化学加工的关键技术
影响掩膜微细电化学加工的关键技术
来源 :中国电子学会生产技术学分会电加工技术部学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:x28221181
【摘 要】
:
本文通过对光刻胶掩膜微细电化学加工的主要参数进行分析研究,发现光刻胶厚度、开口角度,脉冲电源频率、脉宽以及电解液配方都对加工结果的质量有影响,在此基础上提出改善加
【作 者】
:
李嘉珩
马保吉
范植坚
【机 构】
:
西安工业学院机电工程学院(陕西西安)
【出 处】
:
中国电子学会生产技术学分会电加工技术部学术年会
【发表日期】
:
2004年10期
【关键词】
:
光刻胶
微细加工
电化学加工
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本文通过对光刻胶掩膜微细电化学加工的主要参数进行分析研究,发现光刻胶厚度、开口角度,脉冲电源频率、脉宽以及电解液配方都对加工结果的质量有影响,在此基础上提出改善加工质量的可行性方案.
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