自组装单层膜是有机分子通过化学吸附自发的在金属表面形成的有序膜,因为其重要的应用价值而已经被广泛研究了数十年。铜是工业应用中的重要金属之一,所以铜的腐蚀与防护是一个十分迫切的问题，许多自组装单层膜被用来防止铜的腐蚀。 据报道,一种含氮有机缓蚀剂,1,5-二苯基卡巴肼(1,5-diphenylcarbazide，DPC),在酸性溶液中对碳钢有缓蚀作用。但是,对铜的缓蚀作用并没有文献报道。 分子模拟被广泛地用来研充金属表面的自组装体系，能够提供徽观结构方面的一些有价滇的信.息，可以更好的从分子.原子水平上理解自组装的机理。本文文采用Cerius工作站和或material Studio中的分子力学(MM)进行自组装过程的模拟一用Cu(111)单晶面表示洞表面铜基底由四层铜原子构成:优化后的>3PC放置在Cu(lll）面上，将周期性边界条件和COMPASS力场应用于模拟格子。