A位缺陷对K2NiF4型混合导体透氧膜材料氧离子传导性能的影响

来源 :第九届全国膜与膜过程学术报告会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fengyuguohou2009
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  A 位缺陷的 K2NiF4 型混合导体透氧膜(Pr0.9La0.1) 1.9Ni0.74Cu0.21Ga0.05O4+δ ((PL)1.9NCG)与现有的无氧离子缺陷的材料(Pr0.9La0.1)2.0Ni0.74Cu0.21Ga0.05O4+δ ((PL)2.0NCG)相比,具有更高的氧离子传导速率.如图1所示,A位缺陷的材料在900度的透氧量高达0.62 cm3 min-1cm-2,是同等条件下无阳离子缺陷材料的两倍.A位缺陷材料所表现出的较高的透氧量是由于阳离子缺陷引入了高传导速率的氧空穴.(PL) 1.9NCG还表现出很好的CO2稳定性,如图2所示.此外,A位缺陷对K2NiF4型材料透氧性能的改善具有普遍适用性.A位缺陷的K2NiF4型混合导体透氧膜表现出的高透氧量和CO2稳定性使其在纯氧燃烧过程中有很好的应用前景.
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