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离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术无法比拟的优点,在制膜过程中,由于沉积速度慢,膜的厚度及质量容易控制.本文主要介绍离子束溅射技术的原理、基本规律及应用前景.
离子束溅射沉积薄膜技术特点探讨
【摘 要】
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离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术无法比拟的优点,在制膜过程中,由于沉积速度慢,膜的厚度及质量容易控制.本文主要介绍离子束溅射技术的原理、基本规律及应用前景.
【机 构】
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中国工程物理研究院总体工程研究所 四川 绵阳 621900
【出 处】
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第十八届电子信息技术学术年会
【发表日期】
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2016年5期
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