【摘 要】
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A facile growth procedure by low-pressure chemical vapor deposition (LCVD) has been developed to obtain single crystal TiO2 nanorods on Ni-coated Ti substrate.The morphology of samples is critically d
【机 构】
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Key Laboratory of Atomic and Molecular Physics & Functional Materials of Gansu Province,College of P
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A facile growth procedure by low-pressure chemical vapor deposition (LCVD) has been developed to obtain single crystal TiO2 nanorods on Ni-coated Ti substrate.The morphology of samples is critically depended on the growth temperature.Within a range of growth temperature of 700~800℃,single crystal TiO2 nanorods are obtained in large-scale.The nanorods are high purity rutile with a preferential orientation [110].
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