3ω分光膜在1064nm的破斑特性研究

来源 :2007年中国国际工业博览会科技论坛暨上海市激光学会2007年学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lvyuxuan3652008
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研究3ω分光膜在1064nm的激光损伤特性。采用电子束蒸发的方式制备了两种不同材料组合的分光膜,分别对其在波长1064nm激光辐照下的损伤阈仁进行了测试,用Alpha-Step500台阶仪对破斑进行了深度测量,实验结果表明,破斑呈现出表面层的剥落和深坑破坏两种形态。表面层的剥落深度在一定范围内不随能量密度的变化而变化;深坑破坏深浅不一,是膜内缺陷融化、汽化及喷发的综和作用的结果,是损伤阈值降低的主要原因。
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