2. 您的位置
3. 首页
4. 会议论文
5. Cu在多晶硅表面的无电沉积行为

Cu在多晶硅表面的无电沉积行为

来源 :第十六届全国电化学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：z344121483

【作 者】

：

莫烨强 罗建成 黄启明 李伟善 

【机 构】

：

华南师范大学化学与环境学院 华南师范大学化学与环境学院;广东高校电化学储能与发电技术重点实验室,广

【出 处】

：

第十六届全国电化学会议

【发表日期】

：

2011年8期

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文 赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

其他文献

简单快速制备大面积高质量石墨烯的方法

会议

IrOx-Au复合纳米材料的制备及其电化学性质研究

会议

锌铝复合掺杂对氢氧化镍晶型转变的影响

会议

铜箔表面电镀钴-磷催化剂工艺及其电化学性能

会议

Fabrication and electrochemical characterization of graphene and Au nanoparticles self-assemble film

会议

半导体纳晶能级结构与电子性质的电化学研究

会议

Electrodeposition and Luminescent Properties of High Aspect Ratio LaPO4 and LaPO4:Ln3+ (Ln3+ = Ce3+,

会议

电化学沉积功能氧化物薄膜材料的研究

会议

石墨烯的金属电沉积行为研究

会议

石墨烯的光化学工程

会议