哈氏合金(Hastelloy C276)是一种镍-铬-钼固溶体合金,该合金硬度、强度高、延展性好,且耐腐蚀性能优异,耐点蚀性能强,是目前最耐腐蚀的合金之一。磁控溅射镀膜制备的哈氏合金薄膜质量高,与基体结合力好,且抗蚀性能优良,可应用于化学工业、石油工业、烟气脱硫、纸浆和造纸、环保等工业领域。以硅片为基体,采用磁控溅射镀膜方法,制备了耐腐蚀的哈氏合金薄膜。研究了等温条件下不同功率的哈氏合金薄膜表面形貌和表面化学组成的SEM、XPS分析,分析结果表明:(1)由SEM表面形貌可以观察到薄膜的组织结构,薄膜由细小、均匀的球形颗粒组成,薄膜表面均匀平整,结构致密,无孔隙存在。随着功率的升高,溅射原子在基体表面的迁移率增加,晶粒尺寸逐渐增长。因功率升高时Ar离子的能量升高,溅射出来的原子能量也增大,溅射原子将以更高的速度撞击薄膜表面,造成应力增大,表面出现细微的裂纹。(2)通过XPS研究分析得到薄膜表面的主要元素及含量,与靶材成分基本一致;元素价态的变化对结合能有强烈的影响,可根据化学位移判断元素的存在状态,且功率的升高对薄膜表面元素的化学位移没有明显的影响;通过对XPS谱图进行分峰拟合,得到了相对应的谱峰位置及谱峰面积,说明了哈氏合金薄膜表面主要由金属氧化物及零价金属组成。通过硅基哈氏合金薄膜制备及SEM、XPS研究分析,结果表明,薄膜的表面形貌和成分基本满足哈氏合金薄膜性能的要求,为哈氏合金薄膜的工业应用提供了理论依据。