【摘 要】
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介绍一种旋转磁控溅射靶性能优化的方法。通过改善磁铁均匀性,从而实现旋转靶沿轴向镀膜均匀性提高。问题由来:当水平安装旋转靶时,溅射膜层会出现偏向一端或偏向中间点的膜
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介绍一种旋转磁控溅射靶性能优化的方法。通过改善磁铁均匀性,从而实现旋转靶沿轴向镀膜均匀性提高。问题由来:当水平安装旋转靶时,溅射膜层会出现偏向一端或偏向中间点的膜层厚度不均匀性。这种磁控靶自身引起的镀膜不均匀性使得膜层(特别是大尺寸宽度)的镀膜膜厚均匀性下降,影响膜层质量。美国Angstrom Sciences Inc.发开了一种旋转磁控靶结构,有效地解决了这种沿轴向的不均匀性。测试数据表明,3.5米长的旋转磁控靶可以达到+/-2.0%的均匀性。普通结构旋转靶的轴向溅射均匀性:在轴向+/-70英寸(+/-1750mm,总长3500mm)方向上,不均匀性范围为+/-7%,均匀性恶化的总的趋向是从靶的两端向靶中间。优化后,磁控靶的轴向均匀性测试结果:通过调整磁铁固定垫块的尺寸,优化了旋转磁控靶的磁场,从而改善了溅射均匀性。测试结果表明,经过优化后的旋转靶,溅射均匀性达到+/-2.0%。详细的优化措施可以在www.angstromsciences.com或www.leyfond.com网站上下载相关技术及资料。
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