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通过克服传统的自上而下和自下而上纳米结构和纳米光刻的主要限制。通过将干涉图形化的简单性、诱导光刻和自组装的优点相结合，我们开启了一个全新的工艺，用于生长或刻蚀具有精确尺寸、形状和组成的纳米结构的密集阵列。
激光干涉诱导分子束外延量子结构阵列的制备
【摘 要】
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通过克服传统的自上而下和自下而上纳米结构和纳米光刻的主要限制。通过将干涉图形化的简单性、诱导光刻和自组装的优点相结合，我们开启了一个全新的工艺，用于生长或刻蚀具有精确尺寸、形状和组成的纳米结构的密集阵列。
【机 构】
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苏州大学
【出 处】
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2019第二届光电材料与器件战略论坛
【发表日期】
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2019年3期
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