【摘 要】
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利用分子动力学模拟方法研究了2～3nm厚的类金刚石(DLC)薄膜的静态结构和动态生长过程.在静态结构方面,计算了类金刚石薄膜的重要结构参数,如薄膜密度、sp3杂化比例等,以及其受
【机 构】
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清华大学,摩擦学国家重点实验室,北京,100084
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利用分子动力学模拟方法研究了2～3nm厚的类金刚石(DLC)薄膜的静态结构和动态生长过程.在静态结构方面,计算了类金刚石薄膜的重要结构参数,如薄膜密度、sp3杂化比例等,以及其受不同入射能量的影响.载能原子入射是生长均匀、连续、致密固体薄膜的前提,入射原子能量在20～60eV时,薄膜可以获得最优性能.在动态生长过程方面,按照运动特点把入射原子行为分为表面冷冻、迁移、注入和反弹几种模式,利用统计分析手段给出了入射能量对沉积原子表面行为的影响,提出了避免岛状生长的措施.
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