欠密离子体背向散射截面计算

来源 :中国电子学会1995年天线年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:q258007
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
其他文献
一、社会环境——行业分析的一个新视角依据目前主流观点,行业分析是指依据经济学原理,综合计量经济学、应用统计学等分析工具对特定行业的运行状况,特定产品的生产、销售、
又到一年毕业季,莘莘学子在校园内外闪动了一番微笑告别的合影之后,都将汇入茫茫都市人群之中,寻找未来的人生事业和理想。  随着时代的变迁和社会的发展,越来越多的年轻人开始关注与自身息息相关的住房话题。在租房市场鱼龙混杂,租房环境还很恶劣的背景下,不少年轻人纷纷广开思路,投入到毕业季首当其冲的购房安居行动之中。于是,众多年轻学子在毕业季为了买房而忙得不亦乐乎,此情此景被人们广为传扬,也就变成了大家津津
直流等离子体喷射化学气相沉积(DC Plasma JET CVD)金刚石膜的核心技术为等离子炬。采用独立研制的磁控长通道高电压放电等离子炬,基本上解决了高速大面积均匀生长金刚石膜的径向不均匀性问
小槽转盘法利用带有小槽的一对转盘测量等离子喷涂中喷涂粒子的平均速度。粒子的平均速度是不同转速下穿越小槽的粒子数量的函数。小槽转盘法的原理简单,整套装置及试件易于制
采用室温下Se离子注入半绝缘GaAs衬底,通过优化注入能量、剂量、注入角度及快速热退火温度、时间,获得高剂量下(1×10〈’3〉cm〈’-2〉.200KeV),杂质激活率大于74℅,注入层平均载流子浓度为(5-6)×10〈’17〉cm〈’-2〉
在自行设计研制的等离子体化学气相沉积炉内,对硬质合金材料进行沉积TiN的试验。研究了TiN涂层的结构、成份、硬度及形貌等,并分析了工艺参数对这些问题的影响。
会议