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本文介绍了常用的几种各向异性腐蚀模型,并对它们的优缺点进行了一些必要的评价,最后展望了模型的未来发展.
MEMS工艺中硅各向异性湿法腐蚀模型的发展与展望
【摘 要】
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本文介绍了常用的几种各向异性腐蚀模型,并对它们的优缺点进行了一些必要的评价,最后展望了模型的未来发展.
【机 构】
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河北工业大学微电子研究所(天津)
【出 处】
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第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会
【发表日期】
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2003年期
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