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利用晶体硅表面织构转印膜增强OLED出光
利用晶体硅表面织构转印膜增强OLED出光
来源 :第十四届全国发光学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cqz17
【摘 要】
:
在常规结构的OLED 中,受限于器件结构和材料特性,通常发射光的外耦合效率约为20%。因此,提高光的外耦合效率是提高OLED 器件特性的重要途径。我们的研究方案是刻蚀单晶硅片形
【作 者】
:
朱文清
【机 构】
:
上海大学材料科学与工程学院,上海,200072;上海大学新型显示技术及应用集成教育部重点实验室,上海,200072
【出 处】
:
第十四届全国发光学学术会议
【发表日期】
:
2016年11期
【关键词】
:
OLED
晶体硅绒面
转印
出光
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在常规结构的OLED 中,受限于器件结构和材料特性,通常发射光的外耦合效率约为20%。因此,提高光的外耦合效率是提高OLED 器件特性的重要途径。我们的研究方案是刻蚀单晶硅片形成绒面,通过转印获得带织构的出光膜,直接贴附在OLED 玻璃外侧,增加OLED 光取出效率。
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