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用MOS结构高频反型电容弛豫特性研究薄SiO<,2>内体陷阱的动态参数
【机 构】
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大学微电子研究所
【出 处】
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第十届全国半导体集成电路、硅材料学术会
【发表日期】
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1997年期
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