退火对Nb2O5薄膜的折射率和厚度的影响

被引量 : 0次 | 上传用户:ZHANQIWEI
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
<正>Nb2O5是一种具有高折射率、化学稳定性和耐腐蚀性[1]的半导体材料,作为一个优秀的镀膜材料,它已被广泛应电致变色材料、光学系统、催化和气体传感器[2]。同时,Nb2O5也是一种具有多种晶体结构的氧化物,人们发现它存在TTNb2O5(六方),T-Nb2O5(正交),M-Nb2O5(四方)和H-Nb2O5(单斜)等晶体结构[3],这些结构可以通过加热得到。在这些结构中,TT-Nb2O5可以在较低的温度处理获得,而T-Nb2O5可以通过较高的温度处理获得。我们报告不同退火温度对Nb2O5薄膜的晶体结构、厚度和光学性质的影响。
其他文献
<正>以单分散树脂为基质的高效液相色谱填料具有优良的分离性能,尤其对提高色谱柱效、增强色谱柱的穿透性和保持生物大分子活性非常有利。目前,无论是Ugelstad发明的“两步种
会议