甲基磺酸电镀锡添加剂的研究

来源 :第八届全国转化膜技术学术报告年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:XB_1209WTL
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研究了一种新的甲基磺酸镀锡工艺,利用极化曲线、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等检测方法分析了添加剂对电沉积过程和镀层徽现形貌的影响,阐述了添加荆的作用机理。结果表明:镀液的分散能力为58.98%、覆盖能力为100%;添加剂对锡的电沉积过程能够起到很好极化作用,有利于晶棱形成,提高镀层质量;镀层在生长过程中以(211)和(112)晶面的择优取向协同生长方式。
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