ALD沉积ZnO修饰钛基介孔制备多功能药物缓释体系

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【摘要】

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<正>目的:在我们的前期研究中已经证实了钛基介孔(MP)涂层具有良好的抗机械剥离和载药性,但是经过MP涂层处理后钛基的生物活性没有得到显著改善。因此,我们通过原子层沉积(AL

【作者】

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吴淑怡陈梦宇刘劲松

【机构】

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温州医科大学附属口腔医院;

【发表日期】

：

2004年期

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<正>目的:在我们的前期研究中已经证实了钛基介孔(MP)涂层具有良好的抗机械剥离和载药性,但是经过MP涂层处理后钛基的生物活性没有得到显著改善。因此,我们通过原子层沉积(ALD)技术在MP结构中沉积适量的ZnO,以提高MP材料的生物活性而不改变MP结构。材料与方法:本实验通过改变阳极氧化及ALD参数,成功制备出三种不同的

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