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基于子结构的递归分割树方法预测化合物皮肤致敏性
【机 构】
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中国科学院上海药物研究所,新药研究国家重点实验室,药物发现与设计中心,201203
【出 处】
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第十一届全国计算(机)化学学术会议
【发表日期】
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2011年8期
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