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Optical Study on Poly(styrene) Resist Patterns Prepared by Thermal Nanoimprint Lithography

来源 :3rd International Symposium on Integrated Molecular/Material | 被引量 : 0次 | 上传用户：sun763280

【作 者】

：

Koichi Nagase Masaru Nakagawa 

【机 构】

：

IMRAM, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai, Miyagi 980-8577, Japan;Tokyo Institute of Tech

【出 处】

：

3rd International Symposium on Integrated Molecular/Material

【发表日期】

：

2008年1期

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