【摘 要】
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<正>利用磁控溅射方法在不同的沉积条件下制备了AlN薄膜样品,所采用的基体为K9光学抛光玻璃。用XRD测试和分析了薄膜的物相及结晶状态,AFM观测了薄膜表面的形貌和粗糙度。由
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<正>利用磁控溅射方法在不同的沉积条件下制备了AlN薄膜样品,所采用的基体为K9光学抛光玻璃。用XRD测试和分析了薄膜的物相及结晶状态,AFM观测了薄膜表面的形貌和粗糙度。由于AlN薄膜透明且绝缘性能好、对可见光的吸收小,是一种较为理想的一维光子晶体的备选组份材料。众所周知,薄膜的光学常数通常不同于块体材料的,且跟制备条件有密切联系。而AlN薄膜的光学性能鲜见报导,我们着重研究了磁控溅射AlN薄膜的光学常数。
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