【摘 要】
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高场强磁场下的高均匀度是磁共振成像(MRI)超导磁体设计的重要指标之一.在MRI超导主磁体线圈工程实现过程中,磁场的均匀区会发生很大的变化,甚至会造成原始设计完全不可行.本文在超导磁体线圈优化设计完成基础上,以磁场均匀度为目标函数,采用最小二乘法进行优化设计,得到工程化线圈的尺寸、通电电流和匝数.在得到工程化线圈结果的基础上,进一步考虑线圈骨架低温冷收缩、骨架的加工尺寸偏差和线圈匝数变化对于均匀度
【机 构】
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中国科学院应用超导重点实验室,中国科学院电工研究所,北京 100190 中国科学院研究生院 100190 装甲兵工程学院 控制工程系 100072
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高场强磁场下的高均匀度是磁共振成像(MRI)超导磁体设计的重要指标之一.在MRI超导主磁体线圈工程实现过程中,磁场的均匀区会发生很大的变化,甚至会造成原始设计完全不可行.本文在超导磁体线圈优化设计完成基础上,以磁场均匀度为目标函数,采用最小二乘法进行优化设计,得到工程化线圈的尺寸、通电电流和匝数.在得到工程化线圈结果的基础上,进一步考虑线圈骨架低温冷收缩、骨架的加工尺寸偏差和线圈匝数变化对于均匀度的影响,得到的相关结论有助于MRI超导磁体工程实现.
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