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<正>原子层沉积(Atomic Laver Deposition,ALD)是一种薄膜制备技术,起源于芬兰。这种技术是通过将两种挥发性原料以气体脉冲的形式交替引入反应器,依靠留在样品表面的吸附分子进行反应而生成沉积物。相对于传统工艺而言,ALD在沉积层的均匀性、阶梯覆盖率、重复性等方面都具有明显的优势。利用ALD可实现单层、亚单层、埃级别的沉积物厚度控制,并能够在复杂、多孔结构材料上沉积薄膜或者纳米粒子,对样品形貌无特殊要求。利用ALD