【摘 要】
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在制作硅片的化学机械抛光中,纳米二氧化硅颗粒与加工硅片的相互作用决定了材料的去除方式.Umeno势和Watanabe势是Si、O混合系统的势函数,将Umeno势、Watanabe势应用于氧化硅
【机 构】
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清华大学摩擦学国家重点实验室,北京,100084
【出 处】
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2004年中国机械工程学会学术年会
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在制作硅片的化学机械抛光中,纳米二氧化硅颗粒与加工硅片的相互作用决定了材料的去除方式.Umeno势和Watanabe势是Si、O混合系统的势函数,将Umeno势、Watanabe势应用于氧化硅颗粒与硅片表面相互作用的研究,发现Umeno势不能合理计算系统偏离晶体结构时的结合能,不能正确模拟液态硅的结构,而Watanabe势制备的纳米硅颗粒和纳米二氧化硅颗粒不具有球形形状.进一步的分析表明Umeno势的参数拟合方法导致了该势仅能模拟材料的晶体结构.势函数是分子动力学模拟获得正确现象的关键因素,文献中的势函数都存在一定的适用范围,大量的现象尚不能用分子动力学方法进行模拟.
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