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等离子体表面改性提高Cu/SiC:H/SiOC:H多层膜系界面结合强度和热稳定性研究
【机 构】
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四川大学原子核科学及技术研究所
【出 处】
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第十四届全国核物理大会暨第十届会员代表大会
【发表日期】
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2010年期
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