【摘 要】
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采用磁控溅射技术在6H-SiC单晶衬底上厚度为2nm的Pt膜,真空条件下样品经高温退火。采用拉曼、AFM、SEM进行对界面进行表征,结果发现退火过程会使得界面发生化学反应,生成Pt的
【机 构】
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北京科技大学应用科学学院,北京,100083
【出 处】
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第十届全国X射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会
论文部分内容阅读
采用磁控溅射技术在6H-SiC单晶衬底上厚度为2nm的Pt膜,真空条件下样品经高温退火。采用拉曼、AFM、SEM进行对界面进行表征,结果发现退火过程会使得界面发生化学反应,生成Pt的硅化物和单质碳,样品表面呈现岛状生长形貌。当退火温度升高,碳的石墨化程度加强。由于在硅化物的溶解度很低,部分碳经扩散后分布于样品的最表面。缩短退火时间,对无定形碳转变为晶态石墨的影响不显著。
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