【摘 要】
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本文介绍了一种采用在单次反射测量方法的基础上,结合激光稳功率技术、精密探测技术以及双光路测量技术,来测量激光光学元件高反射比的新方法。然后深入地分析了使用这种新方
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本文介绍了一种采用在单次反射测量方法的基础上,结合激光稳功率技术、精密探测技术以及双光路测量技术,来测量激光光学元件高反射比的新方法。然后深入地分析了使用这种新方法,其关键技术:光束的优化,稳功率激光束的获得及光路调整、精密探测系统、监视探测系统、光电流的精确测量以及测试系统屏蔽技术对激光光学元件高反射比测量结果的影响。并给出了对整套装置的不确定度评定,波长632.8nm处U=0.0001(k=2),波长1064nm处,U=0.0005(k=2)。
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