【摘 要】
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本研究采用酰氯化反应制备出石墨烯/碳纳米管三维碳纳米材料，并成功修饰至碳电极表面.以四溴双酚A 为模板分子，吡咯为单体采用电沉积技术成功研制出三维碳纳米材料修饰四溴双酚A 印迹传感器.采用扫描电子显微镜、循环伏安法和差分脉冲伏安法对该印迹电极的性能进行表征.结果表明，三维碳纳米材料和印迹膜成功修饰到碳电极表面.在浓度范围为1.0×10-11～1.0×10-8 mol L-1 内，该印迹传感器的响应
【机 构】
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吉首大学化学化工学院,吉首416000 吉首大学化学化工学院,吉首416000;湖南大学化学生物传
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本研究采用酰氯化反应制备出石墨烯/碳纳米管三维碳纳米材料，并成功修饰至碳电极表面.以四溴双酚A 为模板分子，吡咯为单体采用电沉积技术成功研制出三维碳纳米材料修饰四溴双酚A 印迹传感器.采用扫描电子显微镜、循环伏安法和差分脉冲伏安法对该印迹电极的性能进行表征.结果表明，三维碳纳米材料和印迹膜成功修饰到碳电极表面.在浓度范围为1.0×10-11～1.0×10-8 mol L-1 内，该印迹传感器的响应峰电流与四溴双酚A 浓度的负对数呈良好的线性关系，最低检测限为3.7×10-12 mol L-1.该印迹传感器成功用于实际样品中四溴双酚A 的检测，回收率为93.3～107.7％.
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