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在用H2气氛热处理1J50软磁合金过程中,为了获得良好性能,必须抑制FeNi相和FeNi。相的大量出现。为此,必须在600～200℃过程中快速冷却。采用了两种冷却方式：一是炉温到600℃后立刻改通N2冷却；另一种是炉温到600℃后继续通H2,待温度降到400℃后改通N2冷却。对两种处理后1J50软磁性能进行了检测;并利用金相显微镜、XRD等手段对其组织进行了表征。结果表明,两种处理方法的软磁性能有较大差别;两种处理都未大量出现FeNi相。