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为提高多层膜的激光-X光转换效率，以及辐射的均匀性和对称性，需要严格控制薄膜中的氧含量，并要求表面光洁、界面清晰、厚度一致性好。本研究中，采用本底真空4.5×10-7Pa的脉冲激光沉积(PLD)系统以降低铀薄膜中的氧含量。实验中首先在单晶si基片上制备单层的Au和U薄膜，获得优化的脉冲激光沉积工艺参数后，交替溅射Au靶和U靶沉积了Au/U/Au复合膜，并对薄膜的厚度、表面形貌及成份进行了分析表征。