【摘 要】
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该文选用自主研发的多羟多胺应用于GLSI多层铜布线化学机械平坦化(CMP)抛光液中,实现了碱性CMP抛光液产物可溶,它同时具有pH调节剂,铜离子络合剂,多种金属螯合剂,酸性氧
【机 构】
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河北工业大学微电子技术与材料研究所 天津300130
【出 处】
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中国工程院化工、冶金与材料工程学部第九届学术会议
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该文选用自主研发的多羟多胺应用于GLSI多层铜布线化学机械平坦化(CMP)抛光液中,实现了碱性CMP抛光液产物可溶,它同时具有pH调节剂,铜离子络合剂,多种金属螯合剂,酸性氧化物胺化剂,pH缓冲剂,不锈钢缓蚀剂,活性剂,助氧剂等多种试剂的作用,简化了成分,提高了性能,有效解决了微电子平坦化中极大的难题,在CMP下实现了凸出快速反应,凹处自动钝化,使凹凸出产生高速率差,实现了高平坦化,不加国际上必用的、副作用很大的、有毒的苯并三唑增膜剂,同时实现了低压低磨料,为正在研发的TSV铜膜去除提供了一个新CMP材料。
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