论文部分内容阅读
采用射频磁控溅射法在不同氧氩比的条件下制备了氧化铪绝缘薄膜,分别采用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对氧化铪薄膜的结构和表面形貌进行了表征;分析了不同氧氩比对薄膜结构和表面形貌的影响;针对氧化铪在高温下的应用重点研究了该薄膜在高温下的电阻率.结果表明:氧氩比对涂层的表面形貌和电绝缘特性有显著影响,氧氩比为1:8下制备的薄膜粗糙度和粒径均小于氧氩比为1:4和1:3下制备的薄膜;氧氩比为1:8下制备的薄膜体电阻率最高,在900℃达到2.4x1012Ω.cm,适合在催化燃烧传感器中做绝缘层.