Improved InGaN/GaN quantum wells on treated GaN-template with a Ga-rich GaN interlayer

来源 :第一届全国宽禁带半导体学术及应用技术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:blue1234sky
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
  By flowing the conventional GaN template surface with Trimethylgallium(TMGa)in H2 and low NH3 ambient at low temperature followed by high-temperature annealing,Ga droplets and GaN nanoislands were formed on the surface.On the patterned surface droplet epitaxy of thin GaN layers was realized by flowing the sample surface with TMGa and low NH3 for 400 s in H2 ambient at 1035 ℃.Features such as improved surface smoothness and reduced defect-related yellow/blue emissions were observed indicating improvement of the surface/interface qualities for the treated GaN template.The Ga-rich GaN layer on the treated GaN template might reduce the lattice mismatch and enhance the lateral diffusion of adatoms.InGaN/GaN QWs on the treated GaN template are of relatively abrupt InGaN-GaN interfaces and more uniform QW thickness.The emission intensity from the InGaN/GaN QWs on the treated GaN template was enhanced by 20%than that on the conventional GaN template,which was attributed to the strain reduction and the improvement in crystalline quality.
其他文献
近年来,GaN材料的纳米异质外延(NHE)技术引起了广泛关注.相比于微米级选区生长技术,NHE技术可以通过限制核心尺寸在GaN的初始生长阶段显著湮灭位错、弛豫应力.然而GaN在高缺
会议
  在GaN的MOCVD外延生长中,其表面生长机理仍不清楚,何种粒子到达表面,粒子在表面吸附的位置以及表面如何扩散和结合仍有待回答.另外GaN表面因其晶向不同而展现出不同的生
会议
  随着高频微波技术的发展和器件小型化的需求,与GaN近晶格匹配的宽禁带半导体AlInN由于存在超强的自发极化,可以作为高电子迁移率晶体管的超薄势垒层而被宽禁带半导体学者
会议
近年来,第三代Ⅲ-Ⅴ族宽禁带半导体AlGaN基各类器件的应用领域不断拓展.由于同质衬底的缺乏,目前大多数的AlGaN基器件均外延于蓝宝石衬底上.然而,蓝宝石衬底与氮化物材料存在
会议
氮化镓(GaN)以其优异的物理化学性质和光电特性在高温、高压和高频器件等电子领域有着广泛的应用.国内外GaN纳米材料的生长方法主要包括金属有机化学气相沉积(MOCVD)、分子束
  第三代宽禁带半导体材料碳化硅(SiC)具有击穿电场高、电子饱和迁移率高、热导率高、耐腐蚀等优良的物理化学特性,非常适合于制作高温、高频、大功率器件,在航空航天、电
会议
  本文利用激光分子束外延技术(L-MBE)在(0001)蓝宝石衬底上沉积了β-Ga2O3薄膜,并分别对薄膜的结构,光学以及光电性能进行了研究.XRD分析结果显示,该薄膜具有(-2 0 1)取向,高
会议
氮化铝(AlN)的禁带宽度大、热导率高、与铝镓氮(AlGaN)的晶格适配小,是AlGaN基紫外LED以及高频大功率电力电子器件的理想衬底材料.氢化物气相外延(HVPE)在制备GaN单晶膜厚方
会议