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半导体制造中离子注入(implant)的精确性将直接影响到产品众多电性参数的优良程度.而离子注入经常会因为机器异常或制程设计缺陷使注入离子的能量、剂量和角度等产生偏差.随着技术的不断进步,半导体器件尺寸越来越小对离子注入精确度要求越来越高.
SIMS分析离子注入角度偏差的研究
【摘 要】
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半导体制造中离子注入(implant)的精确性将直接影响到产品众多电性参数的优良程度.而离子注入经常会因为机器异常或制程设计缺陷使注入离子的能量、剂量和角度等产生偏差.随
【机 构】
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中芯国际集成电路制造(天津)有限公司失效分析实验室
【出 处】
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第五届中国二次离子质谱学会议
【发表日期】
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2014年10期
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