【摘 要】
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采用直流磁控溅射法使用合金靶制备了(TbDy)Fe薄膜.在400℃以下处理时薄膜均为非晶态.在500℃以上处理的薄膜中出现了α-Fe相.镀态薄膜呈现出垂直磁各向异性,随着基板预变形的增加,薄膜的垂直磁各向异性逐渐消失,达到一定的预变形后,薄膜没有明显的易磁化方向,这种趋势经200℃处理仍保持.经400℃处理后,所有薄膜呈现出平面磁各向异性.
【机 构】
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天津理工学院材料科学与工程系(天津) 北京航空航天大学材料科学与工程学院(北京)
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采用直流磁控溅射法使用合金靶制备了(Tb<,0.3>Dy<,0.7>)<,35>Fe<,65>薄膜.在400℃以下处理时薄膜均为非晶态.在500℃以上处理的薄膜中出现了α-Fe相.镀态薄膜呈现出垂直磁各向异性,随着基板预变形的增加,薄膜的垂直磁各向异性逐渐消失,达到一定的预变形后,薄膜没有明显的易磁化方向,这种趋势经200℃处理仍保持.经400℃处理后,所有薄膜呈现出平面磁各向异性.
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