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运用显微云纹干涉法可以获得放大100倍以上的云纹干涉条纹，结合相移技术可以分辨出百分之一的条纹位相变化，从而获得更高的位移测量灵敏度。本文进一步发展了这一技术，在微电子器件的微小变形测量方面获得了纳米级测量精度的位移分布图，为微电子结构及材料尤其是局部区域的变形测量研究提供的可靠手段。
相移显微云纹干涉技术用于微电子器件的微小变形测量
【摘 要】
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运用显微云纹干涉法可以获得放大100倍以上的云纹干涉条纹，结合相移技术可以分辨出百分之一的条纹位相变化，从而获得更高的位移测量灵敏度。本文进一步发展了这一技术，在微电子
【机 构】
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东南大学WayneStateUniversityDetroitMichiganMotorolaSemiconductorProductsSectorTempe清华大学
【出 处】
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第九届全国实验力学学术会议
【发表日期】
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2000年1期
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