霍尔推力器绝缘壁面鞘层一维动力学模拟

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霍尔推力器通道内的主流等离子体区域、壁面处的鞘层以及绝缘壁面组成了一个复杂的耦合系统,蕴涵丰富的物理机理。鞘层作为等离子体区域与绝缘壁面的过度区域,许多物理过程都与之有重要联系,相关研究表明鞘层对控制壁面受热、羽流发散、离子壁面溅射腐蚀以及近壁传导有重要影响。因而,研究鞘层的特性具有重要的理论意义和实际应用价值。鞘层的动力学模拟从微观出发,可以获得鞘层中电子分布函数随时间的演化规律。本文介绍了动力学模拟鞘层的一般方法,结合推力器的实际工作特点,针对鞘层的影响因素作了如下分析。首先,鞘层与壁面的耦合表现为二次电子发射,本文针对几种不同的二次电子发射模型对鞘层进行了数值计算,结果表明二次电子发射模型对鞘层形态及其特性参数分布影响显著;其次,由于推力器实际处于振荡的工作状态,即鞘层边界处入射电子分布函数也处于振荡状态,文中考察了不同振荡频率下鞘层电势的变化规律,发现当振荡频率等于电子振荡频率时,鞘层电势振幅最大,并且振幅随电子温度的增加而增加;最后,已有理论及实验研究表明推力器中电子是非麦克斯韦分布的,基于此本文考察并分析了电子非麦克斯韦分布条件下鞘层特性的变化。
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