【摘 要】
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采用熔盐电解法在炭阴极上电镀TiB铝电解用惰性阴极材料,电解在800℃,质量分数组成为4.8KCl-55.7KF-15.3KTiF-24.2KBF(％)的电解质中进行,电流密度为0.3A/cm,电解3h。对制得的
【机 构】
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东北大学,沈阳 110004,辽宁
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采用熔盐电解法在炭阴极上电镀TiB<,2>铝电解用惰性阴极材料,电解在800℃,质量分数组成为4.8KCl-55.7KF-15.3K<,2>TiF<,6>-24.2KBF<,4>(％)的电解质中进行,电流密度为0.3A/cm<2>,电解3h。对制得的镀层做XRD和EMP电子探针形貌分析。实验结果表明,镀层成分为单一的TiB<,2>,无杂相。镀层厚度可达0.2mm,表面平整、分布均匀,与碳基体结合良好,且有金属光泽。说明该电解条件下,Ti和B能够在阴极上共沉积并生成TiB<,2>。
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