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本文介绍了一种含表面活性剂和螯合剂 的新型清洗剂和清洗技术.利用红外吸收谱和X-ray光电子谱,把它和标准RCA清洗技术做了比较.测量和比较了用两种清洗技术清洗过的硅片表面.测试结果表明,它们都在硅片表面产生一层薄二氧化硅.两种清洗技术都在硅片表面产生有机碳污染,但新型清洗技术产生的在机碳污染少于标准RCA清洗方法.