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SiO2/nc-Si/SiO2多层膜结构的非线性光学性质研究
SiO2/nc-Si/SiO2多层膜结构的非线性光学性质研究
来源 :第十三届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tomily98
【摘 要】
:
纳米硅(nc-Si)材料的非线性折射率系数比单晶体Si和SiO2材料分别大两个和四个数量级,这为光开关、光调制、以及波长转换等光器件的应用提供了一种新颖的材料,因而近几年来,
【作 者】
:
张培
沐维维
李悰
徐骏
陈坤基
【机 构】
:
南京大学电子科学与工程学院, 固体微结构物理国家重点实验室,江苏,南京210093
【出 处】
:
第十三届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
:
2012年期
【关键词】
:
SiO2
多层膜结构
非线性光学
非线性折射率系数
材料
波长转换
全光逻辑门
nc-Si
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纳米硅(nc-Si)材料的非线性折射率系数比单晶体Si和SiO2材料分别大两个和四个数量级,这为光开关、光调制、以及波长转换等光器件的应用提供了一种新颖的材料,因而近几年来,引起了国际上许多研究小组的兴趣和关注,其中基于nc-Si材料的全光逻辑门和波长转换的研究也已取得了初步进展。
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