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本文利用能谱分析技术和牛津薄膜分析软件ThinFilmID对几种薄膜电子材料的厚度和成份进行了分析;分析结果与SEM断面测量,X射线荧光测厚和偏光干涉测厚测量结果进行了比较。结果表明如果已知薄膜的密度能谱分析技术能够准确的测量多层膜的厚度和成份,同时具有较高的空间分辨率和非破坏性样品制备简单等优点。