ZrW2O8薄膜的制备及热膨胀性质

来源 :第十一届全国X射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:by090706
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  本文采用溶胶-凝胶技术结合快速退火工艺在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备ZrW2O8薄膜,并研究了退火温度、退火时间对薄膜结构,形貌的影响。利用X射线衍射(XRD)及扫描电镜(SEM)对薄膜的物相及表面形貌进行表征;利用变温XRD研究薄膜的热膨胀性能。薄膜的变温XRD结果表明,在室温~700℃温度范围内,随着温度的升高,(211)和(310)晶面间距变小,其热膨胀系数为负值,而(332)晶面间距随温度升高变大,显示出正膨胀性质。这表明ZrW2O8薄膜材料的热膨胀性能是各向异性的。
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