L-P3101型感光抗蚀油墨在LCD图形制造中的应用

来源 :2004中国平板显示学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:die0410
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本文详述了L-P3101感光抗蚀油墨在LCD的ITO层上进行图形制造的全过程.同时对机理、工艺参数和质量保证也进行了讨论.
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本文报道了用化学源的硅基薄膜金属诱导晶化的试验结果.对于用不同方法沉积得到的非晶硅膜,都能予以晶化.当用不同浓度化学源的金属诱导,晶化效果也存在一定差别.退火气氛亦会对晶化结果产生某些影响.最后对物理源与化学源作诱导金属的晶化结果进行了比较,结果表明,对诱导金属源而言,化学源显示出更为有效的晶化趋势.这些初探给我们的启示是,对金属诱导晶化多晶硅的研究远未止境.
本文从实验生产的角度出发,研究了不同掺杂浓度下Alq:DCJTB系统的红色OLED器件,综合考虑了掺杂浓度、发光效率和色纯度这三者之间的关系,优化红色OLED器件的制作工艺,制备了高效率、高色饱和度的红光器件,为生产制作红光OLED器件做准备.
为了适应军用装备平板显示器的需要,厚膜电致发光显示器(TDEL)被研制和发展,整个器件结构为陶瓷基板/内电极/厚膜绝缘层/发光层/薄膜绝缘层/ITO透明电极.本文给出了亮度与频率、亮度与电压的关系,并对器件的击穿和老化特性进行了简单的讨论.测试结果表明厚膜电致发光显示器件的阈值电压低于45V、发光亮度可达200cd/cm以上.
随着科技的发展、时代的进步,超纯水在平板显示业中的重要作用也日益明显,纯水水质已对最终产品质量、生产成品率及生产成本产生至关重要的影响.本文在大量实践工程技术上,总结了工业超纯水在平板显示行业中的应用及注意事项.
本文运用光学理论计算的方法,对LCD盒内几个膜层(ITO层,取向层PI,绝缘层SIO)厚度参数对LCD ITO电极底影的影响,做出定性定量的分析.
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在PLED玻璃衬底和ITO阳极之间溅射一层光学干涉层,该光学干涉机构可以部分消去背景光的反射.这种方法不需要考虑光学干涉层和OLED或PLED材料之间功函数匹配,以及在溅射过程中对有机层的损伤等问题.制作的器件的对比度是14.7:1,进一步对器件的优化有望达到一个实用化目标.
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本文用再沉淀的方法制备了一系列尺寸的TPA-PPV纳米粒子(20-100nm),用场发射扫描电镜对粒子的尺寸和形貌进行了表征,研究了不同尺寸纳米粒子紫外-可见吸收光谱和荧光光谱,结果表明随着纳米粒子尺寸的减小,紫外-可见吸收光谱和荧光发射光谱均发生了蓝移.
本文讨论了STN-LCD结构设计参数对低阈值电压产品高温可靠性的影响.通过正交试验分析了STN-LCD结构设计参数对低阈值产品高温可靠性影响的重要性,并找出了这些结构参数的最佳设计值.从中可以看出,正交试验是改进STN-LCD结构设计的一个有效方法.