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综合介绍了目前国内外利用磁控溅射和电弧离子镀这两种工艺制备TiAlN薄膜以及影响TiAlN薄膜制备的工艺因索。着重分析了铝在TiAlN膜层中作用及对膜层性能的影响。简要介绍了其它合金元素对膜层性能的影响并指出了TiAlN膜层技术的发展趋势。
电弧离子镀与磁控溅射工艺制备TiAIN膜层的技术进展
【摘 要】
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综合介绍了目前国内外利用磁控溅射和电弧离子镀这两种工艺制备TiAlN薄膜以及影响TiAlN薄膜制备的工艺因索。着重分析了铝在TiAlN膜层中作用及对膜层性能的影响。简要介绍了
【机 构】
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福州大学机械工程学院 350007
【出 处】
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第十届21省(市、自治区)4市铸造学术会议
【发表日期】
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2008年期
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