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电化学原位红外反射光谱中薄层电解池厚度的干涉条纹法研究
电化学原位红外反射光谱中薄层电解池厚度的干涉条纹法研究
来源 :第十三届全国分子光谱学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:niqing813
【摘 要】
:
本文应用干涉条丝毫法测量电化学原位红外反射光谱中薄层电解池的厚度以及实际研究体系中红外光谱信噪比随液层厚度的变化.研究结果表明,要进行红外检测,液层厚度必须小于60
【作 者】
:
苏章菲
陈友江
周志有
李君涛
孙世刚
【机 构】
:
厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室,福建,厦门,361005
【出 处】
:
第十三届全国分子光谱学学术会议
【发表日期】
:
2004年11期
【关键词】
:
干涉条纹法
薄层厚度
原位FTIRS
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本文应用干涉条丝毫法测量电化学原位红外反射光谱中薄层电解池的厚度以及实际研究体系中红外光谱信噪比随液层厚度的变化.研究结果表明,要进行红外检测,液层厚度必须小于60 μm;而在实际研究体系中,液层厚度一般要在10 μm以内.
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