电化学制备纳米金属多层膜与多层纳米线

来源 :天津市电镀工程学会第九届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：true51

【摘要】

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分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征.通过对此,分析了单槽法和双槽法制备多

【作者】

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迟广俊冯钊永赵瑾姚素薇

【机构】

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天津大学化工学院(天津)

【出处】

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天津市电镀工程学会第九届学术年会

【发表日期】

：

2002年期

【关键词】

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化学制备纳米金属多层膜多孔铝阳极氧化膜双槽法电沉积单槽法电化学方法工艺条件法制表征纳米孔模板基础

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分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征.通过对此,分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点.在此工作基础上,以多孔铝阳极氧化膜(AAO)为模板,在纳米孔内沉积Cu/Co多层线,并采用TEM对多层线进行了表征.

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