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长久以来多晶硅太阳能电池的制绒工艺一直都是采用HF/HNO3的酸刻蚀系统，制绒反射率为20％左右，这已逐步成为多晶硅电池发展的瓶颈工艺;而RIE(反应离子制绒)工艺采用SF6和O2以及Cl2的干法刻蚀系统，通过对工艺参数的控制可以实现1％～20％反射率，这在很大程度上增加了电池的光吸收，但RIE制绒在制绒的同时会产生一定的损伤层，需要通过HF/HNO2的去损伤处理才能实现电池效率的提升。本文主要针对RIE制绒的去损伤工艺及后续电池生产工艺进行分析，通过对不同浓度配比的HF/HNO3去损伤工艺及针对RIE制绒的扩散，表面钝化工艺进行优化，实现多晶电池效率提升的目标。