以W合金作为缓释层Cf/SiC与TC4真空钎焊研究

来源 :第十七届全国钎焊及特种连接技术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ihsc2Xid84
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以W合金作为缓释层,采用真空钎焊方法,通过两步焊接过程实现了Cf/SiC与TC4的连接.首先采用单层Ti-13Zr-21Cu-9Ni非晶态箔带钎料进行TC4与W的连接,工艺规范选为930℃/20min;在完成第一次热循环之后,采用Ag-27.4Cu-4.4Ti钎料进行Cf/SiC与W的钎焊,工艺规范选为880℃/10min.实验结果表明,在该工艺规范下不但实现了Cf/SiC与TC4接头的成功连接,而且接头界面结合完好.由于W有效缓解了接头中的应力,使得接头的三点抗弯强度平均值达到144.4MPa.SEM和XEDS分析结果显示,在Cf/SiC与W的钎缝中,Ti在靠近Cf/SiC母材的区域形成了较为连续的扩散反应层,在该反应层中Ti与C发生反应生成TiC相,另外一部分与SiC发生反应,生成Ti-Si相;TC4与W的钎缝中形成了大量的针状组织,且Zr和Ni两种元素扩散较为充分.
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