【摘 要】
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透明导电薄膜的厚度制约其光电性质.本研究利用磁控溅射技术制备了厚度变化范围为200-1500nm的ITO薄膜，探索了薄膜颜色、可见光透过率、面电阻与膜厚的关系.薄膜颜色随着膜厚的增加呈现有规律的变化，可见光透过率随薄膜厚度的增加而呈现振荡下降趋势，并出现了极大值(紫红色)，振荡趋势可用多光束干涉解释；薄膜面电阻随膜厚的增加呈减小趋势，薄膜厚度为1387nm时，面电阻为1.3Ω/□□，薄膜最小电阻率
【机 构】
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中国建筑材料科学研究总院,北京 100024
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透明导电薄膜的厚度制约其光电性质.本研究利用磁控溅射技术制备了厚度变化范围为200-1500nm的ITO薄膜，探索了薄膜颜色、可见光透过率、面电阻与膜厚的关系.薄膜颜色随着膜厚的增加呈现有规律的变化，可见光透过率随薄膜厚度的增加而呈现振荡下降趋势，并出现了极大值(紫红色)，振荡趋势可用多光束干涉解释；薄膜面电阻随膜厚的增加呈减小趋势，薄膜厚度为1387nm时，面电阻为1.3Ω/□□，薄膜最小电阻率到1.8×10-4Ω.cm.文章给出了可以通过选择恰当的薄膜厚度，以尽可能满足透明导电薄膜面电阻、透过率两个相互矛盾的指标.
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